 |
เทมเพลต AlN ที่ใช้แซฟไฟร์ขนาด 6 นิ้วสำหรับอุปกรณ์ 5G BAW หน้าต่างแซฟไฟร์เวเฟอร์ไพลิน
รายละเอียดสินค้า:
| สถานที่กำเนิด: | ประเทศจีน |
| ชื่อแบรนด์: | ZMKJ |
| หมายเลขรุ่น: | 2 นิ้ว AlN-sapphire |
การชำระเงิน:
| จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: | 5pcs |
|---|---|
| ราคา: | by case |
| รายละเอียดการบรรจุ: | ภาชนะเวเฟอร์เดียวในห้องทำความสะอาด |
| เวลาการส่งมอบ: | ใน 30 วัน |
| เงื่อนไขการชำระเงิน: | T / T, wester N Union, Paypal |
| สามารถในการผลิต: | 50PCS / เดือน |
|
ข้อมูลรายละเอียด |
|||
| พื้นผิว: | เวเฟอร์ไพลิน | ชั้น: | แม่แบบ AlN |
|---|---|---|---|
| ความหนาของชั้น: | 1-5um | ประเภทการนำไฟฟ้า: | N/P |
| ปฐมนิเทศ: | 0001 | แอปพลิเคชัน: | อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง |
| ใบสมัคร2: | เครื่องเลื่อย 5G/อุปกรณ์ BAW | ความหนาของซิลิกอน: | 525um/625um/725um |
| แสงสูง: | เทมเพลต AlN ที่ใช้ไพลิน,เวเฟอร์ไพลินขนาด 6 นิ้ว,เทมเพลต AlN ขนาด 6 นิ้ว |
||
รายละเอียดสินค้า
เทมเพลต AlN ที่ใช้แซฟไฟร์ขนาด 2 นิ้ว 4 นิ้ว 6 นิ้ว ฟิล์ม AlN บนแผ่นแซฟไฟร์ หน้าต่างแซฟไฟร์ แผ่นเวเฟอร์แซฟไฟร์
แอปพลิเคชันของเทมเพลต AlN
เทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ที่ใช้ซิลิคอนมาถึงขีดจำกัดแล้วและไม่สามารถตอบสนองความต้องการของอนาคตได้
อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์.เป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่ 3/4 ทั่วไป อะลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) มี
คุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่เหนือกว่า เช่น ช่องว่างกว้าง การนำความร้อนสูง การสลายตัวสูง
ความคล่องตัวทางอิเล็กทรอนิกส์สูงและความต้านทานการกัดกร่อน/รังสี และเป็นสารตั้งต้นที่สมบูรณ์แบบสำหรับอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์
อุปกรณ์ความถี่วิทยุ (RF) อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง ฯลฯ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง สารตั้งต้น AlN คือ
ผู้สมัครที่ดีที่สุดสำหรับ UV-LED, เครื่องตรวจจับ UV, เลเซอร์ UV, อุปกรณ์ RF กำลังสูง/ความถี่สูง 5G และ 5G SAW/BAW
อุปกรณ์ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในการปกป้องสิ่งแวดล้อม, อิเล็กทรอนิกส์, การสื่อสารไร้สาย, การพิมพ์,
ชีววิทยา การดูแลสุขภาพ การทหาร และสาขาอื่นๆ เช่น การทำให้บริสุทธิ์/การทำให้บริสุทธิ์ด้วยรังสียูวี การบ่มด้วยแสงยูวี การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง การนับ
การตรวจจับ Terfeit, การจัดเก็บข้อมูลที่มีความหนาแน่นสูง, การส่องไฟทางการแพทย์, การค้นพบยา, การสื่อสารแบบไร้สายและปลอดภัย,
การตรวจจับการบินและอวกาศ / ห้วงอวกาศและสาขาอื่น ๆ
เราได้พัฒนาอนุกรมของกระบวนการและเทคโนโลยีที่เป็นกรรมสิทธิ์เพื่อประดิษฐ์
เทมเพลต AlN คุณภาพสูงปัจจุบัน OEM ของเราเป็นบริษัทเดียวในโลกที่สามารถผลิต AlN . ขนาด 2-6 นิ้ว
แม่แบบในความสามารถในการผลิตภาคอุตสาหกรรมขนาดใหญ่ที่มีกำลังการผลิต 300,000 ชิ้นในปี 2020 เพื่อตอบสนองการระเบิด
ความต้องการของตลาดจาก UVC-LED, การสื่อสารไร้สาย 5G, เครื่องตรวจจับ UV และเซ็นเซอร์ ฯลฯ
OEM ของเราได้พัฒนาอนุกรมของเทคโนโลยีที่เป็นกรรมสิทธิ์และเครื่องปฏิกรณ์ PVT ที่ล้ำสมัยและสิ่งอำนวยความสะดวกต่างๆ เพื่อ
ผลิตเวเฟอร์ AlN ผลึกเดี่ยวคุณภาพสูงขนาดต่างๆ กัน เทมเพลต AlNเราคือหนึ่งในไม่กี่บริษัทชั้นนำของโลก
บริษัทไฮเทคที่เป็นเจ้าของความสามารถในการผลิต AlN อย่างเต็มรูปแบบเพื่อผลิตลูกเปตองและเวเฟอร์ AlN คุณภาพสูง และจัดหา
บริการระดับมืออาชีพและโซลูชั่นแบบเบ็ดเสร็จให้กับลูกค้าของเรา จัดเรียงจากเครื่องปฏิกรณ์แบบเติบโตและการออกแบบโซนร้อน
การสร้างแบบจำลองและการจำลอง การออกแบบกระบวนการและการเพิ่มประสิทธิภาพ การเติบโตของผลึก
เวเฟอร์และลักษณะเฉพาะของวัสดุจนถึงเดือนเมษายน 2019 พวกเขาได้ใช้สิทธิบัตรมากกว่า 27 รายการ (รวมถึง PCT)
ข้อมูลจำเพาะ
ช
ข้อมูลจำเพาะเกี่ยวกับ aracteristic
ข้อมูลจำเพาะเกี่ยวกับ aracteristic
ข้อกำหนดเทมเพลต GaN 4INCH อื่น ๆ ที่เกี่ยวข้อง
| GaN/ Al₂O₃ พื้นผิว (4") 4 นิ้ว | |||
| สิ่งของ | ไม่เจือปน | N-type |
สารเจือสูง N-type |
| ขนาด (มม.) | Φ100.0±0.5 (4") | ||
| โครงสร้างพื้นผิว | กานบนแซฟไฟร์(0001) | ||
| พื้นผิวเสร็จสิ้น | (มาตรฐาน: ตัวเลือก SSP: DSP) | ||
| ความหนา (มม.) | 4.5±0.5;20±2;กำหนดเอง | ||
| ประเภทการนำ | ไม่เจือปน | N-type | N-type ที่มีเจือสูง |
| ความต้านทาน (Ω·ซม.) (300K) | ≤0.5 | ≤0.05 | ≤0.01 |
| ความสม่ำเสมอของความหนาของ GaN |
≤±10% (4") | ||
| ความหนาแน่นของการเคลื่อนที่ (ซม.-2) |
≤5×108 | ||
| พื้นที่ผิวที่ใช้งานได้ | ＞90% | ||
| บรรจุุภัณฑ์ | บรรจุในสภาพแวดล้อมห้องคลีนรูมคลาส 100 | ||
| โครงสร้างคริสตัล |
Wurtzite |
| ค่าคงที่ขัดแตะ (Å) | a=3.112, c=4.982 |
| ประเภทแถบนำไฟฟ้า | bandgap โดยตรง |
| ความหนาแน่น (g/cm3) | 3.23 |
| ความแข็งระดับไมโครของพื้นผิว (การทดสอบคนุป) | 800 |
| จุดหลอมเหลว (℃) | 2750 (10-100 บาร์ใน N2) |
| ค่าการนำความร้อน (W/m·K) | 320 |
| พลังงานช่องว่างวง (eV) | 6.28 |
| การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอน (V·s/cm2) | 1100 |
| สนามสลายไฟฟ้า (MV/ซม.) | 11.7 |
ต้องการทราบรายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์นี้