Name: 8/6/4/2 นิ้ว LPCVD เตาเผาออกซิเดชั่น อัตโนมัติเต็ม การควบคุมออกซิเจนต่ํา
Uploaded: 2026-03-10CDT00:13:12-05:00
Duration: 46 s
Description: Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

การพูดคุย ติดต่อเรา

8/6/4/2 นิ้ว LPCVD เตาเผาออกซิเดชั่น อัตโนมัติเต็ม การควบคุมออกซิเจนต่ํา

วิดีโออื่นๆ

April 27, 2025

การพูดคุย ติดต่อเรา

คําอธิบายวีดีโอ:

Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.

วิดีโอที่เกี่ยวข้อง