5x5 / 10x10 มิลลิเมตรแกลเลียมไนไตรด์เวเฟอร์ HVPE แม่แบบยืนชิปฟรีอุตสาหกรรม
รายละเอียดสินค้า:
สถานที่กำเนิด: | จีน |
ชื่อแบรนด์: | zmkj |
หมายเลขรุ่น: | กาน-FS-CU-C50-SSP |
การชำระเงิน:
จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: | 10 ชิ้น |
---|---|
ราคา: | 1200~2500usd/pc |
รายละเอียดการบรรจุ: | กรณีเวเฟอร์เดียวโดยแพคเกจสูญญากาศ |
เวลาการส่งมอบ: | 1-5weeks |
เงื่อนไขการชำระเงิน: | T/T |
สามารถในการผลิต: | 50 ชิ้นต่อเดือน |
ข้อมูลรายละเอียด |
|||
วัสดุ: | กานผลึกเดี่ยว | ขนาด: | 10x10 / 5x5 / 20x20mmt |
---|---|---|---|
ความหนา: | 0.35mm | ชนิด: | N-ประเภท |
ใบสมัคร: | อุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ | ||
แสงสูง: | gan เวเฟอร์,เวเฟอร์แกลเลียมฟอสเฟต |
รายละเอียดสินค้า
เทมเพลต GaN ขนาด 2 นิ้ว, GaN เวเฟอร์สำหรับ LeD, เซมิคอนดักเตอร์ Gallium Nitride Wafer สำหรับ ld, แม่แบบ GaN, mocvd GaN เวเฟอร์, พื้นผิว GaN แบบยืนฟรีตามขนาดที่กำหนดเอง, ขนาดเล็ก GaN เวเฟอร์สำหรับ LED, mocvd Gallium Nitride เวเฟอร์ 10x10mm, 5x5mm เวเฟอร์พื้นผิว GaN แบบอิสระ (a-plane และ m-plane)
ลักษณะของเวเฟอร์ GaN
สินค้า | แกลเลียมไนไตรด์ (GaN) สารตั้งต้น | ||||||||||||||
รายละเอียดสินค้า: | เทมเพลต Saphhire GaN นำเสนอวิธี Epitxial hydride vapor phase epitaxy (HVPE) ในกระบวนการ HVPE กรดที่ผลิตโดยปฏิกิริยา GaCl ซึ่งจะทำปฏิกิริยากับแอมโมเนียในการผลิตแกลเลียมไนไตรด์ละลาย แม่แบบ Epitaxial GaN เป็นวิธีที่ประหยัดต้นทุนในการแทนที่พื้นผิวผลึกเดี่ยวแกลเลียมไนไตรด์ | ||||||||||||||
พารามิเตอร์ทางเทคนิค: |
| ||||||||||||||
ข้อมูลจำเพาะ: | ฟิล์ม epitaxial แบบ GaN (C Plane), ชนิด N, 2 "* 30 ไมครอน, ไพลิน; ฟิล์ม epitaxial GaN (เครื่องบิน C), N-type, ไพลิน 2 "* 5 ไมครอน; ฟิล์ม epitaxial GaN (R Plane), ชนิด N, ไพลินขนาด 2 "* 5 ไมครอน; ฟิล์ม epitaxial GaN (M Plane), ชนิด N, ไพลินขนาด 2 "* 5 ไมครอน ภาพยนตร์ AL2O3 + GaN (N-type doped Si); ภาพยนตร์ AL2O3 + GaN (Mg ชนิดเจือปนชนิด P) หมายเหตุ: ตามความต้องการของลูกค้าการวางแนวปลั๊กพิเศษและขนาด | ||||||||||||||
บรรจุภัณฑ์มาตรฐาน: | 1,000 คลีนรูม, 100 ถุงสะอาดหรือบรรจุภัณฑ์กล่องเดียว |
ใบสมัคร
GaN สามารถใช้งานได้ในหลายพื้นที่เช่นจอแสดงผล LED, การตรวจจับพลังงานสูงและการถ่ายภาพ
เลเซอร์ฉายจอแสดงผลอุปกรณ์ไฟฟ้า ฯลฯ
- เลเซอร์ฉายจอแสดงผลอุปกรณ์ไฟฟ้า ฯลฯ
- การจัดเก็บวันที่
- แสงสว่างที่ประหยัดพลังงาน
- จอแสดงผล fla สีเต็มรูปแบบ
- เลเซอร์ฉายภาพ
- อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ประสิทธิภาพสูง
- อุปกรณ์ไมโครเวฟความถี่สูง
- การตรวจจับพลังงานสูงและจินตนาการ
- เทคโนโลยีไฮโดรเจนโซลาร์พลังงานใหม่
- การตรวจสภาพแวดล้อมและเวชภัณฑ์ชีวภาพ
- แหล่งกำเนิดแสงเฮิร์ตซ์แบนด์
ข้อมูลจำเพาะ:
พื้นผิว GaN อิสระแบบไม่มีขั้ว (a-plane และ m-plane) | ||
ชิ้น | กาน-FS-A | กาน-FS-M |
ขนาด | 5.0mm × 5.5mm | |
5.0mm × 10.0mm | ||
5.0mm × 20.0mm | ||
ขนาดที่กำหนดเอง | ||
ความหนา | 350 ± 25 µm | |
ปฐมนิเทศ | a-plane ± 1 ° | m-plane ± 1 ° |
TTV | ≤15 µm | |
คันธนู | ≤20 µm | |
ประเภทการนำไฟฟ้า | N-ประเภท | |
ความต้านทาน (300K) | <0.5 Ω·ซม | |
ความหนาแน่นของการเคลื่อนที่ | น้อยกว่า 5x10 6 ซม. -2 | |
พื้นที่ผิวที่ใช้ได้ | > 90% | |
ขัด | พื้นผิวด้านหน้า: Ra <0.2nm พร้อมขัด Epi | |
พื้นผิวด้านหลัง: พื้นดินที่ดี | ||
บรรจุภัณฑ์ | บรรจุในสภาพแวดล้อมห้องสะอาดระดับ 100 ในภาชนะบรรจุแผ่นเวเฟอร์เดี่ยว |