• 5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate
  • 5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate
  • 5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate
5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate

รายละเอียดสินค้า:

สถานที่กำเนิด: ประเทศจีน
ชื่อแบรนด์: ZMKJ
หมายเลขรุ่น: UTI-AlN-10x10 ผลึกเดี่ยว

การชำระเงิน:

จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: 1pcs
ราคา: by case
รายละเอียดการบรรจุ: ภาชนะเวเฟอร์เดียวในห้องทำความสะอาด
เวลาการส่งมอบ: ใน 30 วัน
เงื่อนไขการชำระเงิน: T / T, wester N Union, Paypal
สามารถในการผลิต: 10pcs / เดือน
ราคาถูกที่สุด ติดต่อ

ข้อมูลรายละเอียด

วัสดุ: AlN คริสตัล ความหนา: 400um
ปฐมนิเทศ: 0001 แอปพลิเคชัน: อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง
ใบสมัคร2: เครื่องเลื่อย 5G/อุปกรณ์ BAW รา: 0.5nm
ขัดพื้นผิว: Al face cmp, N-face mp ประเภทคริสตัล: 2H
แสงสูง:

เส้นผ่านศูนย์กลาง 10 มม. aln substrate

,

5G เห็น Semiconductor Substrate

,

single crystal aln substrate

รายละเอียดสินค้า

 

10x10mm หรือเส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm dia25.4mm dia30mm, dia45mm, dia50.8mm AlN substrate AlN single crystal wafers

 

แอปพลิเคชันของเทมเพลต AlN
เทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ที่ใช้ซิลิคอนมาถึงขีดจำกัดแล้วและไม่สามารถตอบสนองความต้องการของอนาคตได้
อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์.เป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่ 3/4 ทั่วไป อะลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) มี
คุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่เหนือกว่า เช่น ช่องว่างกว้าง การนำความร้อนสูง การสลายตัวสูง
ความคล่องตัวทางอิเล็กทรอนิกส์สูงและทนต่อการกัดกร่อน/รังสี และเป็นสารตั้งต้นที่สมบูรณ์แบบสำหรับอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์
อุปกรณ์ความถี่วิทยุ (RF) อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง ฯลฯ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง สารตั้งต้น AlN คือ
ผู้สมัครที่ดีที่สุดสำหรับ UV-LED, เครื่องตรวจจับ UV, เลเซอร์ UV, อุปกรณ์ RF กำลังสูง/ความถี่สูง 5G และ 5G SAW/BAW
อุปกรณ์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในการปกป้องสิ่งแวดล้อม, อิเล็กทรอนิกส์, การสื่อสารไร้สาย, การพิมพ์,
ชีววิทยา การดูแลสุขภาพ การทหาร และสาขาอื่นๆ เช่น การทำให้บริสุทธิ์/การฆ่าเชื้อด้วยแสงยูวี การบ่มด้วยแสงยูวี การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง
การตรวจจับ Terfeit, การจัดเก็บข้อมูลที่มีความหนาแน่นสูง, การส่องไฟทางการแพทย์, การค้นพบยา, การสื่อสารแบบไร้สายและปลอดภัย,
การตรวจจับการบินและอวกาศ / ห้วงอวกาศและสาขาอื่น ๆ
เราได้พัฒนาอนุกรมของกระบวนการและเทคโนโลยีที่เป็นกรรมสิทธิ์เพื่อประดิษฐ์
เทมเพลต AlN คุณภาพสูงปัจจุบัน OEM ของเราเป็นบริษัทเดียวในโลกที่สามารถผลิต AlN . ขนาด 2-6 นิ้ว
แม่แบบในความสามารถในการผลิตภาคอุตสาหกรรมขนาดใหญ่ที่มีกำลังการผลิต 300,000 ชิ้นในปี 2020 เพื่อตอบสนองการระเบิด
ความต้องการของตลาดจาก UVC-LED, การสื่อสารไร้สาย 5G, เครื่องตรวจจับ UV และเซ็นเซอร์ ฯลฯ
 
ขณะนี้เราให้บริการลูกค้าด้วยไนโตรเจนคุณภาพสูงขนาด 10x10 มม. / Φ10มม. / Φ15มม. / Φ20มม. / Φ25.4มม. / Φ30มม. / Φ50.8มม.
ผลิตภัณฑ์พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียม และยังสามารถให้ลูกค้า 10-20 มม.ไม่มีขั้ว
พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียมไนไตรด์ M-plane หรือปรับแต่งขนาด 5mm-50.8mm ที่ไม่ได้มาตรฐานให้กับลูกค้า
พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียมไนไตรด์ขัดเงาผลิตภัณฑ์นี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในฐานะวัสดุพื้นผิวระดับไฮเอนด์
ใช้ในชิป UVC-LED, เครื่องตรวจจับ UV, เลเซอร์ UV และพลังงานสูงต่างๆ
/ อุณหภูมิสูง / ฟิลด์อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ความถี่สูง
 
 
ข้อกำหนดลักษณะ
  • แบบอย่างUTI-AlN-10x10B-ผลึกเดี่ยว
  • เส้นผ่านศูนย์กลาง 10x10±0.5mm
  • ความหนาของพื้นผิว (µm) 400± 50
  • ปฐมนิเทศแกน C [0001] +/- 0.5°

เกรดคุณภาพ เกรด S(ซุปเปอร์) เกรด P(การผลิต) เกรด R(วิจัย)

  • รอยแตกไม่มี ไม่มี <3mm
  • FWHM-2θXRD@(0002) <150<300 <500
  • FWHM-HRXRD@(10-12) <100<200 <400
  • ความหยาบผิว [5×5µm] (นาโนเมตร)อัลใบหน้า CMP <0.5nm;N-face (พื้นผิวด้านหลัง) MP <1.2um;
  • พื้นที่ใช้สอย 90%
  • การดูดซับ <50 ; <70 ; <100;
  • การวางแนวความยาวครั้งแรก {10-10} ±5°;
  • TTV (µm)≤30
  • โบว์ (µm)≤30
  • วิปริต (µm)-30~30
  • หมายเหตุ: ผลการจำแนกลักษณะเหล่านี้อาจแตกต่างกันเล็กน้อยขึ้นอยู่กับอุปกรณ์และ/หรือซอฟต์แวร์ที่ใช้
5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 0

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 1

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 2

 

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 3

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 4

 
ธาตุเจือปน CO Si B นา WPS Ti Fe
PPMW27 90 5.4 0.92 0.23 <0.1 <0.1 <0.5 0.46 <0.5
 
 
โครงสร้างคริสตัล

Wurtzite

ค่าคงที่ขัดแตะ (Å) a=3.112, c=4.982
ประเภทแถบนำไฟฟ้า bandgap โดยตรง
ความหนาแน่น (g/cm3) 3.23
ความแข็งระดับไมโครของพื้นผิว (การทดสอบคนุป) 800
จุดหลอมเหลว (℃) 2750 (10-100 บาร์ใน N2)
ค่าการนำความร้อน (W/m·K) 320
พลังงานช่องว่างวง (eV) 6.28
การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอน (V·s/cm2) 1100
สนามสลายไฟฟ้า (MV/ซม.) 11.7

 

ต้องการทราบรายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์นี้
ฉันสนใจ 5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate คุณช่วยส่งรายละเอียดเพิ่มเติมเช่นประเภทขนาดปริมาณวัสดุ ฯลฯ ให้ฉันได้ไหม
ขอบคุณ!