logo
ราคาดี  ออนไลน์

รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. ผลิตภัณฑ์ Created with Pixso.
สารกึ่งตัวนำ
Created with Pixso.

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate

ชื่อแบรนด์: ZMKJ
เลขรุ่น: UTI-AlN-10x10 ผลึกเดี่ยว
ปริมาณการสั่งซื้อขั้นต่ำ: 1pcs
ราคา: by case
รายละเอียดการบรรจุ: ภาชนะเวเฟอร์เดียวในห้องทำความสะอาด
เงื่อนไขการจ่ายเงิน: T / T, wester N Union, Paypal
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
ประเทศจีน
วัสดุ:
AlN คริสตัล
ความหนา:
400um
ปฐมนิเทศ:
0001
แอปพลิเคชัน:
อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง
ใบสมัคร2:
เครื่องเลื่อย 5G/อุปกรณ์ BAW
รา:
0.5nm
ขัดพื้นผิว:
Al face cmp, N-face mp
ประเภทคริสตัล:
2H
สามารถในการผลิต:
10pcs / เดือน
เน้น:

เส้นผ่านศูนย์กลาง 10 มม. aln substrate

,

5G เห็น Semiconductor Substrate

,

single crystal aln substrate

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

 

10x10mm หรือเส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm dia25.4mm dia30mm, dia45mm, dia50.8mm AlN substrate AlN single crystal wafers

 

แอปพลิเคชันของเทมเพลต AlN
เทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ที่ใช้ซิลิคอนมาถึงขีดจำกัดแล้วและไม่สามารถตอบสนองความต้องการของอนาคตได้
อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์.เป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่ 3/4 ทั่วไป อะลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) มี
คุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่เหนือกว่า เช่น ช่องว่างกว้าง การนำความร้อนสูง การสลายตัวสูง
ความคล่องตัวทางอิเล็กทรอนิกส์สูงและทนต่อการกัดกร่อน/รังสี และเป็นสารตั้งต้นที่สมบูรณ์แบบสำหรับอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์
อุปกรณ์ความถี่วิทยุ (RF) อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง/ความถี่สูง ฯลฯ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง สารตั้งต้น AlN คือ
ผู้สมัครที่ดีที่สุดสำหรับ UV-LED, เครื่องตรวจจับ UV, เลเซอร์ UV, อุปกรณ์ RF กำลังสูง/ความถี่สูง 5G และ 5G SAW/BAW
อุปกรณ์ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในการปกป้องสิ่งแวดล้อม, อิเล็กทรอนิกส์, การสื่อสารไร้สาย, การพิมพ์,
ชีววิทยา การดูแลสุขภาพ การทหาร และสาขาอื่นๆ เช่น การทำให้บริสุทธิ์/การฆ่าเชื้อด้วยแสงยูวี การบ่มด้วยแสงยูวี การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง
การตรวจจับ Terfeit, การจัดเก็บข้อมูลที่มีความหนาแน่นสูง, การส่องไฟทางการแพทย์, การค้นพบยา, การสื่อสารแบบไร้สายและปลอดภัย,
การตรวจจับการบินและอวกาศ / ห้วงอวกาศและสาขาอื่น ๆ
เราได้พัฒนาอนุกรมของกระบวนการและเทคโนโลยีที่เป็นกรรมสิทธิ์เพื่อประดิษฐ์
เทมเพลต AlN คุณภาพสูงปัจจุบัน OEM ของเราเป็นบริษัทเดียวในโลกที่สามารถผลิต AlN . ขนาด 2-6 นิ้ว
แม่แบบในความสามารถในการผลิตภาคอุตสาหกรรมขนาดใหญ่ที่มีกำลังการผลิต 300,000 ชิ้นในปี 2020 เพื่อตอบสนองการระเบิด
ความต้องการของตลาดจาก UVC-LED, การสื่อสารไร้สาย 5G, เครื่องตรวจจับ UV และเซ็นเซอร์ ฯลฯ
 
ขณะนี้เราให้บริการลูกค้าด้วยไนโตรเจนคุณภาพสูงขนาด 10x10 มม. / Φ10มม. / Φ15มม. / Φ20มม. / Φ25.4มม. / Φ30มม. / Φ50.8มม.
ผลิตภัณฑ์พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียม และยังสามารถให้ลูกค้า 10-20 มม.ไม่มีขั้ว
พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียมไนไตรด์ M-plane หรือปรับแต่งขนาด 5mm-50.8mm ที่ไม่ได้มาตรฐานให้กับลูกค้า
พื้นผิวผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียมไนไตรด์ขัดเงาผลิตภัณฑ์นี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในฐานะวัสดุพื้นผิวระดับไฮเอนด์
ใช้ในชิป UVC-LED, เครื่องตรวจจับ UV, เลเซอร์ UV และพลังงานสูงต่างๆ
/ อุณหภูมิสูง / ฟิลด์อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ความถี่สูง
 
 
ข้อกำหนดลักษณะ
  • แบบอย่างUTI-AlN-10x10B-ผลึกเดี่ยว
  • เส้นผ่านศูนย์กลาง 10x10±0.5mm
  • ความหนาของพื้นผิว (µm) 400± 50
  • ปฐมนิเทศแกน C [0001] +/- 0.5°

เกรดคุณภาพ เกรด S(ซุปเปอร์) เกรด P(การผลิต) เกรด R(วิจัย)

  • รอยแตกไม่มี ไม่มี <3mm
  • FWHM-2θXRD@(0002) <150<300 <500
  • FWHM-HRXRD@(10-12) <100<200 <400
  • ความหยาบผิว [5×5µm] (นาโนเมตร)อัลใบหน้า CMP <0.5nm;N-face (พื้นผิวด้านหลัง) MP <1.2um;
  • พื้นที่ใช้สอย 90%
  • การดูดซับ <50 ; <70 ; <100;
  • การวางแนวความยาวครั้งแรก {10-10} ±5°;
  • TTV (µm)≤30
  • โบว์ (µm)≤30
  • วิปริต (µm)-30~30
  • หมายเหตุ: ผลการจำแนกลักษณะเหล่านี้อาจแตกต่างกันเล็กน้อยขึ้นอยู่กับอุปกรณ์และ/หรือซอฟต์แวร์ที่ใช้
5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 0

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 1

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 2

 

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 3

5G Saw เส้นผ่านศูนย์กลาง 10mm Single Crystal AlN Semiconductor Substrate 4

 
ธาตุเจือปน CO Si B นา WPS Ti Fe
PPMW27 90 5.4 0.92 0.23 <0.1 <0.1 <0.5 0.46 <0.5
 
 
โครงสร้างคริสตัล

Wurtzite

ค่าคงที่ขัดแตะ (Å) a=3.112, c=4.982
ประเภทแถบนำไฟฟ้า bandgap โดยตรง
ความหนาแน่น (g/cm3) 3.23
ความแข็งระดับไมโครของพื้นผิว (การทดสอบคนุป) 800
จุดหลอมเหลว (℃) 2750 (10-100 บาร์ใน N2)
ค่าการนำความร้อน (W/m·K) 320
พลังงานช่องว่างวง (eV) 6.28
การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอน (V·s/cm2) 1100
สนามสลายไฟฟ้า (MV/ซม.) 11.7

 

สินค้าที่เกี่ยวข้อง
รับราคาที่ดีที่สุด