บทนำสู่ JGS1, JGS2 และ JGS3 Fused Silica

“Fused Silica” หรือ “Fused Quartz” ซึ่งเป็นเฟสอสัณฐานของควอตซ์ (SiO2) เมื่อเปรียบเทียบกับแก้วบอโรซิลิเกต Fused silica ไม่มีสารเติมแต่ง ดังนั้นจึงอยู่ในรูปบริสุทธิ์ SiO2 Fused silica มีการส่งผ่านที่สูงกว่าในสเปกตรัมอินฟราเรดและอัลตราไวโอเลตเมื่อเทียบกับแก้วทั่วไป Fused silica ผลิตโดยการหลอมและทำให้ SiO2 บริสุทธิ์พิเศษแข็งตัวอีกครั้ง ในทางกลับกัน Fused silica สังเคราะห์ทำจากสารตั้งต้นทางเคมีที่อุดมด้วยซิลิกอน เช่น SiCl4 ซึ่งถูกทำให้เป็นก๊าซแล้วออกซิไดซ์ในบรรยากาศ H2 + O2 ฝุ่น SiO2 ที่เกิดขึ้นในกรณีนี้จะถูกหลอมรวมกับซิลิกาบนพื้นผิว บล็อก Fused silica ถูกตัดเป็นแผ่นเวเฟอร์ หลังจากนั้นเวเฟอร์จะถูกขัดเงาในที่สุด

JGS1, JGS2 และ JGS3 เป็นเกรดพิเศษสามเกรดของ Fused silica ที่มีความบริสุทธิ์สูง แต่ละเกรดได้รับการออกแบบมาเพื่อประสิทธิภาพสูงสุดในช่วงความยาวคลื่นที่แตกต่างกัน ผลิตภายใต้มาตรฐานการผลิตที่เข้มงวด พวกเขามีการส่งผ่านแสงที่ดีเยี่ยม ความเสถียรทางความร้อน และความทนทานต่อการเสื่อมสภาพของสิ่งแวดล้อม วัสดุเหล่านี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในระบบเลเซอร์, สเปกโทรสโกปี, การประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์, การถ่ายภาพอินฟราเรด และมาตรวิทยาแม่นยำ

ในขณะที่ทั้งสามเกรดมีพื้นฐานมาจาก SiO₂ อสัณฐานที่มีความบริสุทธิ์และความเป็นเนื้อเดียวกันที่เหนือกว่า ความแตกต่างที่สำคัญอยู่ที่ช่วงสเปกตรัมและการควบคุมปริมาณ OH ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งาน UV, มองเห็นได้ และ IR ที่แตกต่างกัน

Fused Silica เกรด UV - JGS1, JGS2 และ JGS3

JGS1 – Fused Silica เกรด UV

260–3500 nm 185–2500 nm
การส่งผ่านอินฟราเรด (IR) ที่ดีขึ้นพร้อมกับลดจุดสูงสุดของการดูดซึม OH การส่งผ่านอัลตราไวโอเลต (DUV) ที่ลึกเป็นพิเศษ

JGS1 เป็น Fused silica เกรด UV ระดับพรีเมียมที่ออกแบบมาสำหรับการใช้งานที่ต้องการการส่งผ่านที่ดีกว่าในสเปกตรัมอัลตราไวโอเลตลึก ผลิตด้วยสิ่งเจือปนของโลหะที่ต่ำมากและการควบคุมปริมาณไฮดรอกซิล (OH) ทำให้มีการดูดซึมน้อยที่สุดและความเสถียรสูงภายใต้การสัมผัสกับเลเซอร์ UV

คุณสมบัติทางแสงที่สำคัญของ JGS1:

• การส่งผ่านสูง (>90%) จาก 200 nm ขึ้นไป

• การเรืองแสงต่ำมากและการเกิดโซลาไรเซชันน้อยที่สุด

• เกณฑ์ความเสียหายของเลเซอร์สูงสำหรับความยาวคลื่นเลเซอร์เอ็กซิเมอร์

• คุณภาพพื้นผิวที่ดีเยี่ยมที่ทำได้หลังจากการขัดเงาอย่างแม่นยำ

การใช้งานทั่วไปของ JGS1:

• เลนส์และหน้ากากฉายภาพโฟโตลิโทกราฟี

• หน้าต่างและปริซึมเกรด UV สำหรับอุปกรณ์สเปกโทรสโกปี

• ตัวแยกลำแสง UV ประสิทธิภาพสูง

• เครื่องมือทางวิทยาศาสตร์สำหรับการวิเคราะห์อัลตราไวโอเลต

• JGS2 – Fused Silica เกรดออปติคัล

ช่วงการส่งผ่านความยาวคลื่น:

260–3500 nmข้อได้เปรียบหลัก:
การส่งผ่านอินฟราเรด (IR) ที่ดีขึ้นพร้อมกับลดจุดสูงสุดของการดูดซึม OHJGS2 เป็น Fused silica เกรดออปติคัลอเนกประสงค์ที่ปรับให้เหมาะสมสำหรับการใช้งานที่มองเห็นได้และใกล้เคียงอินฟราเรด ยังคงรักษาการส่งผ่าน UV ในระดับปานกลาง แต่จุดแข็งหลักอยู่ที่การส่งผ่านสูงและการบิดเบือนคลื่นหน้าต่ำในสเปกตรัม VIS–NIR

คุณสมบัติทางแสงที่สำคัญของ JGS2:

การส่งผ่านสูงทั่วทั้งสเปกตรัมแสงที่มองเห็นได้

• ความโปร่งใสของ UV ที่ดีลงไปถึง ~220 nm

• ทนทานต่อแรงกระแทกจากความร้อนได้ดีเยี่ยมและความแข็งแรงทางกล

• ดัชนีการหักเหของแสงสม่ำเสมอโดยมีการหักเหของแสงน้อยที่สุด

• การใช้งานทั่วไปของ JGS2:

เลนส์และหน้าต่างถ่ายภาพที่มีความแม่นยำ

• ออปติกของระบบเลเซอร์สำหรับความยาวคลื่น VIS–NIR

• กล้องจุลทรรศน์ออปติคัลและระบบฉายภาพ

• ตัวแยกลำแสง ตัวกรอง และปริซึมสำหรับอุปกรณ์วัด

• ออปติกป้องกันในสภาพแวดล้อมเลเซอร์พลังงานสูง

• JGS3 – Fused Silica เกรด IR

ช่วงการส่งผ่านความยาวคลื่น:

260–3500 nmข้อได้เปรียบหลัก:
การส่งผ่านอินฟราเรด (IR) ที่ดีขึ้นพร้อมกับลดจุดสูงสุดของการดูดซึม OHJGS3 ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการใช้งานที่เกี่ยวข้องกับ IR กระบวนการผลิตช่วยลดปริมาณกลุ่มไฮดรอกซิล ลดแถบการดูดซึมที่ ~2.73 μm และ ~4.27 μm ซึ่งเป็นเรื่องปกติใน Fused silica มาตรฐาน สิ่งนี้ทำให้ JGS3 มีคุณค่าอย่างยิ่งในสเปกโทรสโกปี IR และการถ่ายภาพความร้อน

คุณสมบัติทางแสงที่สำคัญของ JGS3:

การส่งผ่าน IR สูงพร้อมการสูญเสียการดูดซึมต่ำ

• ลดแถบการดูดซึมที่เกี่ยวข้องกับ OH

• ทนทานต่อความร้อนและสารเคมีได้ดีเยี่ยม

• ลักษณะทางแสงที่เสถียรในระหว่างรอบการให้ความร้อนซ้ำ

• การใช้งานทั่วไปของ JGS3:

หน้าต่างและคิวเวตต์สเปกโตรมิเตอร์ IR

• ออปติกกล้องถ่ายภาพความร้อน

• หน้าต่างป้องกันเซ็นเซอร์ IR

• ช่องมองอุณหภูมิสูงสำหรับอุตสาหกรรม

• ส่วนประกอบการสื่อสาร IR ไฟเบอร์ออปติก

• ภาพรวมเปรียบเทียบ – JGS1 เทียบกับ JGS2 เทียบกับ JGS3

เพื่อช่วยในการเลือกเกรดที่เหมาะสม นี่คือสรุปเปรียบเทียบ:

คุณสมบัติ / เกรด

การผลิต Fused silica ซีรีส์ JGS เกี่ยวข้องกับ:
 

การทำให้บริสุทธิ์ของวัตถุดิบ – ใช้เฉพาะวัตถุดิบ SiO₂ ที่มีความบริสุทธิ์สูงพิเศษเท่านั้น

การหลอมที่ควบคุม – ช่วยให้มั่นใจได้ถึงการรวมตัวและฟองอากาศน้อยที่สุด

การอบอ่อน – ขจัดความเครียดภายในเพื่อรักษาการหักเหของแสงต่ำ

การขึ้นรูปที่แม่นยำ – ใช้เครื่องมือเพชรเพื่อให้ได้ขนาดที่แม่นยำ

การขัดเงาละเอียดพิเศษ – ทำให้พื้นผิวขรุขระ

<5 Å RMSการทดสอบสเปกตรัม – ใช้สเปกโตรโฟโตมิเตอร์เพื่อยืนยันเส้นโค้งการส่งผ่าน

คำถามที่พบบ่อย – JGS1, JGS2 และ JGS3 Fused Silica

คำถามที่ 1: อะไรคือความแตกต่างหลักระหว่าง JGS1, JGS2 และ JGS3 Fused silica?

A:
ทั้งสามเกรดมีความเสถียรทางเคมีเหมือนกันโดยธรรมชาติกับ Fused silica โดยมีความทนทานต่อกรด น้ำ และสารเคมีส่วนใหญ่ได้ดีเยี่ยม ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริกและด่างเข้มข้นร้อน

• เป็นตัวเลือกที่ต้องการเนื่องจากความทนทานต่อ UV ที่เหนือกว่าJGS2

• หากแอปพลิเคชันของคุณอยู่ในช่วงที่มองเห็นได้หรือใกล้เคียงอินฟราเรดJGS3

• สำหรับการออกแบบที่เน้นอินฟราเรด โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อการลดการดูดซึม OH เป็นสิ่งสำคัญคำถามที่ 2: ฉันควรเลือกระหว่าง JGS1, JGS2 และ JGS3 อย่างไร?

A:
ทั้งสามเกรดมีความเสถียรทางเคมีเหมือนกันโดยธรรมชาติกับ Fused silica โดยมีความทนทานต่อกรด น้ำ และสารเคมีส่วนใหญ่ได้ดีเยี่ยม ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริกและด่างเข้มข้นร้อนเลือก

• JGS3 เป็นตัวเลือกที่ต้องการเนื่องจากความทนทานต่อ UV ที่เหนือกว่า<250 nm)เลือก

• JGS3 หากแอปพลิเคชันของคุณอยู่ในช่วงที่มองเห็นได้หรือใกล้เคียงอินฟราเรดเลือก

• JGS3 สำหรับการออกแบบที่เน้นอินฟราเรด โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อการลดการดูดซึม OH เป็นสิ่งสำคัญคำถามที่ 3: JGS1, JGS2 และ JGS3 สามารถใช้ในระบบเลเซอร์กำลังสูงได้หรือไม่?

A:
ทั้งสามเกรดมีความเสถียรทางเคมีเหมือนกันโดยธรรมชาติกับ Fused silica โดยมีความทนทานต่อกรด น้ำ และสารเคมีส่วนใหญ่ได้ดีเยี่ยม ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริกและด่างเข้มข้นร้อนJGS1 เป็นตัวเลือกที่ต้องการเนื่องจากความทนทานต่อ UV ที่เหนือกว่าคำถามที่ 4: มีความแตกต่างในความทนทานต่อสารเคมีในหมู่ JGS1, JGS2 และ JGS3 หรือไม่?

A:
ทั้งสามเกรดมีความเสถียรทางเคมีเหมือนกันโดยธรรมชาติกับ Fused silica โดยมีความทนทานต่อกรด น้ำ และสารเคมีส่วนใหญ่ได้ดีเยี่ยม ยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริกและด่างเข้มข้นร้อนเกี่ยวกับเรา

ZMSH เชี่ยวชาญด้านการพัฒนา เทคโนโลยีขั้นสูง การผลิต และการขายแก้วออปติคัลพิเศษและวัสดุคริสตัลใหม่ ผลิตภัณฑ์ของเราให้บริการด้านอิเล็กทรอนิกส์ออปติคัล อิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค และกองทัพ เรานำเสนอส่วนประกอบออปติคัลแซฟไฟร์ ฝาครอบเลนส์โทรศัพท์มือถือ เซรามิก LT ซิลิคอนคาร์ไบด์ SIC ควอตซ์ และเวเฟอร์คริสตัลเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยความเชี่ยวชาญและอุปกรณ์ที่ทันสมัย เรามีความเป็นเลิศในการประมวลผลผลิตภัณฑ์ที่ไม่ได้มาตรฐาน โดยมีเป้าหมายที่จะเป็นองค์กรเทคโนโลยีขั้นสูงด้านวัสดุออปโตอิเล็กทรอนิกส์ชั้นนำ