5x5 / 10x10 มิลลิเมตรแกลเลียมไนไตรด์เวเฟอร์ HVPE แม่แบบยืนชิปฟรีอุตสาหกรรม
รายละเอียดสินค้า:
สถานที่กำเนิด: | จีน |
ชื่อแบรนด์: | zmkj |
หมายเลขรุ่น: | กาน-FS-CU-C50-SSP |
การชำระเงิน:
จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ: | 10 ชิ้น |
---|---|
ราคา: | 1200~2500usd/pc |
รายละเอียดการบรรจุ: | กรณีเวเฟอร์เดียวโดยแพคเกจสูญญากาศ |
เวลาการส่งมอบ: | 1-5weeks |
เงื่อนไขการชำระเงิน: | T/T |
สามารถในการผลิต: | 50 ชิ้นต่อเดือน |
ข้อมูลรายละเอียด |
|||
วัสดุ: | คริสตัลเดียวของ GaN | ขนาด: | 10x10/5x5/20x20มม |
---|---|---|---|
ความหนา: | 0.35มม | ประเภท: | ประเภท N |
การใช้งาน: | อุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ | ||
เน้น: | gan เวเฟอร์,เวเฟอร์แกลเลียมฟอสเฟต |
รายละเอียดสินค้า
กาเนียมไนตรไดเซลล์ 2 นิ้ว แผ่น GaN สําหรับ LED, แผ่นไนตรได Gallium นิตรไดเซลล์สําหรับ ld, กาเนียมไนตรไดเซลล์, แผ่นไนตรไดเซลล์ mocvd, แผ่นไนตรไดเซลล์ GaN ที่ยืนอิสระตามขนาดที่กําหนดเอง, แผ่นไนตรไดเซลล์ GaN ขนาดเล็กสําหรับ LED,mocvd โวฟเฟอร์ไนทริดกัลเลียม 10x10 มิลลิเมตร, 5x5 มิลลิเมตร, 10x5 มิลลิเมตร GaN wafer, Non-Polar Freestanding GaN Substrate ((a-plane และ m-plane)
คุณลักษณะของ GaN Wafer
สินค้า | สับสราตของไนทรีดกัลเลียม (GaN) | ||||||||||||||
คําอธิบายสินค้า: |
Saphire GaN template นําเสนอวิธีการการระบายระบายระบายระบายระบายระบายระบายระบายระบายระบาย (HVPE) กรดที่ผลิตจากการปฏิกิริยา GaCl ซึ่งกลับปฏิกิริยากับอะโมเนียก เพื่อผลิตน้ํามันไนทรีดกัลลিয়ামหลอมแมปชั่น GaN Epitaxial เป็นวิธีที่คุ้มค่าในการแทนเยื่อกระจกเดียวของไนทรีดแกลเลียม. |
||||||||||||||
ปริมาตรเทคนิค: |
|
||||||||||||||
รายละเอียด: |
ผนัง Epitaxial GaN (C Plane) แบบ N 2 "* 30 ไมครอน สีน้ําเงินสีเหลือง ผิวหนัง Epitaxial GaN (C Plane) แบบ N, 2 "* 5 ไมครอน ซาฟิรัส; ผิวหนัง Epitaxial GaN (R Plane) แบบ N, 2 "* 5 ไมครอน ซาฟิรัส ผนังเอปิตาชียัล GaN (M Plane) ชนิด N, 2 "* 5 ไมครอน ซาฟฟีร์ AL2O3 + GaN ฟิล์ม (Si ที่ปรับปรุงแบบ N); AL2O3 + GaN ฟิล์ม (Mg ที่ปรับปรุงแบบ P) หมายเหตุ: ตามความต้องการของลูกค้า การตั้งทิศทางและขนาดของพล็อกพิเศษ |
||||||||||||||
การบรรจุมาตรฐาน: | ห้องสะอาด 1000 ห้องสะอาด 100 ถุงสะอาดหรือกล่องบรรจุเดียว |
การใช้งาน
GaN สามารถใช้ได้ในหลายสาขา เช่น จอ LED การตรวจจับพลังงานสูง และการถ่ายภาพ
เครื่องแสดงแสงเลเซอร์ เครื่องใช้พลังงาน เป็นต้น
- เครื่องแสดงแสงเลเซอร์ เครื่องใช้พลังงาน เป็นต้น
- การเก็บข้อมูลวัน
- ไฟประหยัดพลังงาน
- หน้าจอ FLA สีเต็ม
- การฉายแสงเลเซอร์
- อุปกรณ์ อิเล็กทรอนิกส์ ที่ มี ประสิทธิภาพสูง
- อุปกรณ์ ไมโครเวฟ ความถี่ สูง
- การตรวจจับพลังงานสูงและจินตนาการ
- พลังงานใหม่ หรือเทคโนโลยีไฮโดรเจน
- สิ่งแวดล้อม การตรวจสอบและการแพทย์ชีววิทยา
- ระยะเทราเฮร์ตซ์ของแหล่งแสง
รายละเอียด:
สับสราท GaN ที่ยืนอิสระไม่เป็นขั้วโลก ((a-plane และ m-plane) | ||
รายการ | GaN-FS-a | GaN-FS-m |
ขนาด | 5.0 มิลลิเมตร × 5.5 มิลลิเมตร | |
5.0mm × 10.0mm | ||
5.0mm × 20.0mm | ||
ขนาดตามต้องการ | ||
ความหนา | 350 ± 25 μm | |
การเรียนรู้ | a-plane ± 1° | m-ระนาบ ± 1° |
TTV | ≤ 15 μm | |
BOW | ≤ 20 μm | |
ประเภทการนํา | ประเภท N | |
ความต้านทาน ((300K) | < 0.5 Ω·cm | |
ความหนาแน่นของการหักตัว | ต่ํากว่า 5x106cm-2 | |
พื้นที่ใช้ได้ | > 90% | |
การเคลือบ | หน้าผิว: Ra < 0.2nm | |
ด้านหลัง: ดินดี | ||
แพ็คเกจ | บรรจุในสภาพห้องสะอาดชั้น 100 ในถังแผ่นเดียว ภายใต้บรรยากาศไนโตรเจน |
คําถามและคําตอบ
Q:วาเฟอร์ GaN คืออะไร?
A:Aโวฟเฟอร์ GaN(gallium nitride wafer) เป็นเยื่อเบื้องบนที่บางและเรียบทําจาก gallium nitride เป็นวัสดุครึ่งประสาทที่ใช้ในอิเล็กทรอนิกส์ที่มีประสิทธิภาพสูงวอฟเฟอร์ GaN เป็นพื้นฐานในการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์โดยเฉพาะสําหรับการใช้งานที่ต้องการพลังงานสูง ความถี่สูง และประสิทธิภาพสูง วัสดุนี้มีความสําคัญเป็นพิเศษในอุตสาหกรรม เช่น อิเล็กทรอนิกส์พลังงาน, โทรคมนาคมและไฟ LED.
Q:ทําไม GaN ดีกว่าซิลิคอน
A:GaN (กัลเลียมไนทรีด) ดีกว่าซิลิคอนในหลาย ๆ การใช้งานที่มีประสิทธิภาพสูงช่องแบนด์กป์กว้าง(3.4 eV เมื่อเทียบกับ 1.1 eV ของซิลิคอน) ทําให้อุปกรณ์ GaN สามารถทํางานได้ความดันสูงขึ้น,อุณหภูมิและความถี่. GaN'sประสิทธิภาพสูงส่งผลให้การผลิตความร้อนที่ต่ํากว่าและลดการสูญเสียพลังงานทําให้มันเหมาะสมสําหรับอิเล็กทรอนิกส์พลังงานระบบชาร์จเร็วและการใช้งานความถี่สูงนอกจากนี้ GaN ยังมีความสามารถในการนําความร้อนที่ดีขึ้น, ทําให้อุปกรณ์สามารถทํางานได้อย่างมีประสิทธิภาพมากขึ้นในสภาพที่ต้องการ. ผลลัพธ์คืออุปกรณ์ที่ใช้ GaN มีขนาดเล็กกว่า, ประหยัดพลังงานและมีความน่าเชื่อถือมากกว่าคณะที่ใช้ซิลิคอน.
คําสําคัญ: #GaN #GalliumNitride #PowerElectronics #Performance High #Efficiency #LED #LaserProjection #EnergyEfficientLighting #HighFrequencyDevices #NonPolarGaN #FreestandingGaN #GaNSubstrates #MOCVD คําสําคัญ: #GaN #GalliumNitride #PowerElectronics #HighPerformance #Efficiency #LED #LaserProjection #EnergyEfficientLighting #HighFrequencyDevices #NonPolarGaN #GaNSubstrates #MOCVD