ชื่อแบรนด์: | ZMSH |
เลขรุ่น: | SOI Wafe |
SOI Wafer Silicon-on Insulator Wafer ขนาด 4 นิ้ว 5 นิ้ว 6 นิ้ว 8 นิ้ว (100) (111) P Type N Type
SOI wafer หมายถึงชั้นบางของซิลิคอนซิงกราสตัลที่เคลือบบนตัวประกอบจากซิลิคอนไดออกไซด์หรือกระจก (ดังนั้นชื่อ "ซิลิคอนบนชั้นประกอบประกอบ"(มักเรียกว่า SOI)ทรานซิสเตอร์ที่สร้างขึ้นบนชั้นบางของ SOI สามารถทํางานเร็วขึ้นและใช้พลังงานน้อยกว่าที่สร้างขึ้นบนชิปซิลิคอนธรรมดาเทคโนโลยีซิลิคอน-บน-ไอโซเลเตอร์ (SOI) คือการผลิตอุปกรณ์ครึ่งนําซิลิคอนในซิลิคอนที่หุ้มกันซิลิคอน, เพื่อลดความจุของปรสิตภายในอุปกรณ์ โดยผลการทํางานจะดีขึ้นอุปกรณ์ที่ใช้ SOI ต่างกันจากอุปกรณ์ที่ใช้ซิลิคอนทั่วไป โดยที่จุดเชื่อมซิลิคอนอยู่เหนืออุปกรณ์กันไฟฟ้า, โดยทั่วไปเป็นซิลิคอนไดออกไซด์หรือซาฟฟีร์ (อุปกรณ์ประเภทนี้เรียกว่าซิลิคอนบนซาฟฟีร์ หรือ SOS) การเลือกของเครื่องกันไฟส่วนใหญ่ขึ้นอยู่กับการใช้งานที่ตั้งใจโดยใช้ sapphire สําหรับความถี่วิทยุที่มีประสิทธิภาพสูง (RF) และการใช้งานที่มีความรู้สึกต่อรังสี, และซิลิคอนไดออกไซด์สําหรับการลดผลกระทบช่องสั้นในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ ชั้นกันหนาวและชั้นซิลิคอนด้านบนยังแตกต่างกันมากขึ้นอยู่กับการใช้งาน
กว้าง | 4" | 5" | 6" | 8" | |
ชั้นอุปกรณ์ | สารเสริม | โบอร์, โฟส, อาร์เซนิก, แอนติโมเนียม, ไม่ติดยา | |||
การเรียนรู้ | <100>, <111> | ||||
ประเภท | SIMOX, BESOI, ซิมบอนด์ | ||||
ความต้านทาน | 0.001-20000 โอม-ซม. | ||||
ความหนา (mm) | > 1.5 | ||||
TTV | < 2m | ||||
ชั้น BOX | ความหนา (mm) | 0.2-4.0um | |||
ความเหมือนกัน | < 5% | ||||
สับสราต | การเรียนรู้ | <100>, <111> | |||
ประเภท/สารดอปแอนท์ | ประเภท P/Boron, N ประเภท/Phos, N ประเภท/As, N ประเภท/Sb | ||||
ความหนา (mm) | 200-1100 | ||||
ความต้านทาน | 0.001-20000 โอม-ซม. | ||||
พื้นที่เสร็จ | P/P, P/E | ||||
อนุภาค | < 10@0.3m |
โซลโซล (SoL) ที่ได้รับการปรับปรุงมาเป็นส่วนตัวของเราถูกใช้ในสาขาต่างๆ ดังนี้
ตลาดปลาย:
1.Q: สถานที่ต่อเนื่องไฟฟ้าของซิลิคอนในไอโซเลเตอร์คืออะไร?
A: สถาน Dielectric สําหรับวัสดุซิลิคอนที่ใช้กันทั่วไปคือ: ซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO2) - สถาน Dielectric = 39ซิลิคอนไนไตรได (SiNx) - เสถียรไฟฟ้าละลาย = 75.ซิลิคอนบริสุทธิ์ (Si) - เสถียรไฟฟ้าละเอียด = 117
2.Q: ข้อดีของ SOI คืออะไร?
ตอบ: โวฟเฟอร์ SOI มีความต้านทานต่อรังสีที่สูงขึ้น ทําให้มันไม่ค่อยมีอาการผิดพลาดที่อ่อนโยน. ความหนาแน่นที่สูงขึ้นยังเพิ่มผลผลิต, ทําให้การใช้งานโวฟเฟอร์ดีขึ้นข้อดีเพิ่มเติมของแผ่น SOI ได้แก่ การลดความขึ้นอยู่กับอุณหภูมิและปัญหาแอนเทนน่าน้อยลง.